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當前位置：首頁 >產(chǎn)品中心>實驗室設備>游離二氧化硅前處理儀>HD-Si12全自動游離二氧化硅前處理工作站
簡要描述：全自動游離二氧化硅前處理工作站，依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標準《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動完成添加焦磷酸、自動加熱攪拌、自動升溫、15分鐘消解過程準確控溫在245℃-250℃、自動降溫、自動注水、自動復溫、自動過濾、自動清洗等功能，整個過程無需人員值守，實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化。
產(chǎn)品型號：HD-Si12廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家 更新時間：2025-07-18訪 問 量：866 詳細介紹
| 品牌 | 霍爾德?電子 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環(huán)保 |
一、儀器功能要求
全自動游離二氧化硅前處理工作站，依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標準《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動完成添加焦磷酸、自動加熱攪拌、自動升溫、15分鐘消解過程準確控溫在245℃-250℃、自動降溫、自動注水、自動復溫、自動過濾、自動清洗等功能，整個過程無需人員值守，實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化。
二、全自動游離二氧化硅前處理工作站的主要技術參數(shù)：
＊2.1全自動一體機，自動完成加焦磷酸、消解、降溫、過濾、清洗等實驗步驟，滿足國標要求，保證數(shù)據(jù)準確性。
＊2.2儀器具有加水后復溫功能，過濾過程中，可對液體實時混勻，混勻速度可調(diào)。
＊2.3配備≥12個樣本位，≥12個過濾位。特制玻璃樣品杯，保障樣品快速均勻加熱，特制過濾裝置，耐酸堿耐高溫，實現(xiàn)快速過濾。樣本可連續(xù)上機，實現(xiàn)不停機做樣。
2.4運行過程中無需轉(zhuǎn)移樣品，減少樣品在不同器皿之間轉(zhuǎn)移過程中的損失。
2.5儀器可以自動添加焦磷酸至樣品中，無需手工添加。
2.6儀器具有自動降溫功能，消解后樣品架離開加熱位，完成快速降溫。
2.7自動控溫加熱，10min內(nèi)液體升溫至245℃,15分鐘保持在245℃-250℃。
＊2.8采用雙感溫控探頭，實時監(jiān)控液體溫度，控溫精度±0.1℃。
2.9儀器采用一體恒溫加熱模組，各加熱位溫度均勻一致。
2.10儀器采用耐酸堿高精度計量泵，加液精度<1%。
2.11特制攪拌棒，攪拌測溫一體設計，攪拌速度可調(diào)節(jié)，保證樣品攪拌均勻。
2.12具有磷酸制備焦磷酸功能，可自動加磷酸，在線制備焦磷酸。
＊2.13采用負壓過濾系統(tǒng)，兩個樣品可同時過濾，滴液速度和負壓大小均可調(diào)節(jié)，快速安全。
2.14儀器內(nèi)置調(diào)試軟件，自動校準加液精度。
2.15儀器自動使用0.1mol/L鹽酸和高溫純化水沖洗樣品杯和殘渣，用戶還可根據(jù)需要選擇清洗次數(shù)和清洗量，足量清洗，提高結果準確性。
＊2.16采用噴頭噴淋清洗樣品杯，保證清洗無殘留。
2.17儀器具有排風裝置，可自動對接排風管道，也可置于通風櫥內(nèi)使用。
2.18儀器具有試劑液量消耗監(jiān)控，低于預警值能夠?qū)崿F(xiàn)人性化提醒，確保實驗有效進行。
2.19儀器內(nèi)置觸摸屏電腦，軟件自動控制，直接編輯輸入信息，無需人工干預。
2.20實驗過程全流程可視，軟件可直觀顯示當前實驗狀態(tài)和進度。
2.21實驗過程中溫度實時顯示，并自動記錄消解攪拌時間。
2.22安全性保護：儀器具有消解加熱過溫保護，整機設備（空氣開關）漏電過流保護。
2.23儀器自動記錄實驗各環(huán)節(jié)過程參數(shù)，形成實驗過程記錄，并可支持數(shù)據(jù)打印，導出，數(shù)據(jù)儲存量≥10000 組。
2.24 儀器支持U盤升級，也可選配遠程升級功能，簡化設備固件升級流程，一鍵升級。
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